В. Н. Балашов, Б. Н. Васичев
Московский Государственный институт электроники и математики (технический университет), Москва, Россия
Рассмотрены перспективы создания электронно-литографического оборудования для производства СБИС и ССИС методами однокристальной технологии. Показана целесообразность создания электронно-оптической системы электронного литографа с полем экспонирования, равным кристаллу СБИС, на основе электронных линз с криволинейной оптической осью.