А. М. Филачев
Государственное унитарное предприятие НПО “Орион”, Москва, Россия
Б. И. Фукс
Институт радиоэлектроники РАН, Москва, Россия
Д. Э. Гринфельд
Государственное предприятие “НИИ электронной и ионной оптики”, Москва, Россия
Рассмотрены физические процессы, имеющие место при электронно-лучевой обработке поверхности диэлектрических материалов. В частности, экспериментально исследованы механизмы стекания внесенного лучом электрического заряда. Обнаружено, что обработка поверхности ряда стекол сопровождается аномально высокой электронной эмиссией, которая приводит к быстрому исчезновению внесенного заряда. Данный эффект не может быть обусловлен вторичной эмиссией электронов.