А. А. Жуков, С. А. Жукова, Ю. С. Четверов
ЦНИИ “Циклон”, Москва, Россия
П. Г. Бабаевский
“МАТИ” РГТУ им. К. Э. Циолковского, Москва, Россия
С. Ю. Шаповал
ИПТМ РАН, г. Черноголовка, Россия
Исследовано влияние химического состава и температуры имидизации тонких полиимидных покрытий на скорость травления в кислородсодержащей плазме, генерируемой источником электронно-циклотронного резонанса (ЭЦР), при различном потенциале самосмещения и продолжительности воздействия плазмы. Показана корреляция скорости плазмохимического травления и угла профиля рельефа топологического рисунка в полиимидных покрытиях.